Маска за лице "Binella CiQ Genistein Mask" за всеки тип кожа, особено при случаи на енергийна липса, увреждания от слънчева радиация и алергии.
Тази маска укрепва и възстановява клетъчната мембрана, подпомага възстановяването на тъканите и стабилизира защитния механизъм на кожата срещу свободните радикали.
Употреба:
- Прилагайте 2-3 пъти седмично в достатъчно количество.
- След 15 минути почистете с влажна кърпа.
- След това нанесете обичайната си крема за грижа.
Общи характеристики
- Област на Употреба
- Лице
- Форма на маската
- Крем / Гел
- Premium
- Не
- Дермокозметика
- Не
Количество
- Обем
- 50 мл
Важна информация
Спецификациите са събрани от официални уебсайтове на производителите. Моля, проверете ги, преди да продължите с окончателната си покупка. Ако забележите някакъв проблем, докладвайте го тук.